简述半导体行业用超纯水设备工作原理
半导体行业用超纯水设备工作原理
1、水进入纯化系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。
2、树脂截留水中的溶存离子。
3、被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。
4、阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外。
5、阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外。
6、浓缩了的离子从废水流路中排出。
7、去离子水从树脂/膜内流出。
半导体行业用超纯水设备制备工艺
1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象
2、预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。
超纯水设备的使用范围非常广泛，可以应用在化工、电子、医药、实验室、电镀等各种行业中。
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